蠕動泵的應用十分廣泛，如果你認為只有在和流體相關的行業使用蠕動泵產品那就大錯特錯了，下面蠕動泵生產廠家思諾流體小編為大家詳細講解微型蠕動泵在半導體行業的應用。
半導體制造要求始終控制工藝工具中的液體流動，苛刻的應用之一是化學機械平坦化（CMP）。當CMP工具不能將一致的漿料速率分配到拋光基材上時，它會對產量，化學品使用和材料完整性產生極大的負面影響。晶圓厚度的變化，缺陷密度的增加，工具停機時間和晶圓廢料的增加只是流程控制不良可能導致的一些問題。
微型蠕動泵非常適合半導體行業的高純度和腐蝕性化學環境，對于CMP，提供了在拋光過程中的使用點漿料流分配到晶片所需的線性和可重復性，低剪切力對CMP漿料溫和，其變速操作允許在很寬的操作范圍內控制流量，以保持過程的完整性。
漿料的性能可實現的晶圓平面度，微型蠕動泵通過控制漿料輸送和分配，有助于實現這一目標。小流量蠕動泵的非侵入式設計提供了直的流動路徑，沒有死流區域，使漿料凝聚，硬化并污染過程。流速達到±0.5％。提供的穩定的流體輸送不僅可確保漿料不斷流向拋光墊，還可減少漿料，化學品和去離子水的浪費。
冀公網安備 13060202001139號